Suchergebnisse - NORDQUIST KEVIN J

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Silicon carbide high-power devices von Weitzel, C.E., Palmour, J.W., Carter, C.H., Moore, K., Nordquist, K.K., Allen, S., Thero, C., Bhatnagar, M.

Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices

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Direct pattern transfer for sub-45 nm features using nanoimprint lithography von Le, Ngoc V., Dauksher, William J., Gehoski, Kathy A., Nordquist, Kevin J., Ainley, Eric, Mangat, Pawitter

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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Direct pattern transfer for sub-45nm features using nanoimprint lithography von Le, Ngoc V., Dauksher, William J., Gehoski, Kathy A., Nordquist, Kevin J., Ainley, Eric, Mangat, Pawitter

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4H-SiC MESFET with 2.8 W/mm power density at 1.8 GHz von Weitzel, C.E., Palmour, J.W., Carter, C.H., Nordquist, K.J.

Veröffentlicht in IEEE electron device letters

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4H-SiC MESFET with 65.7% power added efficiency at 850 MHz von Moore, K.E., Weitzel, C.E., Nordquist, K.J., Pond, L.L., Palmour, J.W., Allen, S., Carter, C.H.

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Inspection of templates for imprint lithography von Hess, Harald F., Pettibone, Don, Adler, David, Bertsche, Kirk, Nordquist, Kevin J., Mancini, David P., Dauksher, William J., Resnick, Douglas J.

Veröffentlicht in Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

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Lithographic template von DOUR J. RESNICK,KEVIN J. NORDQUIST

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Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device von GARZA CESAR M.,WU WEI E.,ROMAN BERNARD J.,MANGAT PANWITTER J. S.,NORDQUIST KEVIN J.,DAUKSHER WILLIAM J

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LITHOGRAPHIC TEMPLATE von NORDQUIST KEVIN J, RESNICK DOUG J

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Lithographic template and method of formation and use von DAUKSHER WILLIAM J, NORDQUIST KEVIN J, BAKER JEFFREY H

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Lithographic template and method of formation and use von Nordquist, Kevin J, Baker, Jeffrey H, Dauksher, William J

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Lithographic template von DOUR J. RESNICK, KEVIN J. NORDQUIST

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LITHOGRAPHIC TEMPLATE von RESNICK, DOUG, J, NORDQUIST, KEVIN, J

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LITHOGRAPHIC TEMPLATE von RESNICK, DOUG, J, NORDQUIST, KEVIN, J

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Lithographic template and method of formation and use von NORDQUIST, KEVIN J, RESNICK, DOUG J

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Lithographic template and method of formation and use von DAUKSHER WILLIAM J, NORDQUIST KEVIN J, BAKER JEFFREY H

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Lithographic template and method of formation and use von NORDQUIST KEVIN J, RESNICK DOUG J

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Lithographic template and method of formation and use von Resnick, Doug J, Nordquist, Kevin J

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LITHOGRAPHIC TEMPLATE von RESNICK, DOUR, J, NORDQUIST, KEVIN, J

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Silicon carbide high-power devices von Weitzel, C.E., Palmour, J.W., Carter, C.H., Moore, K., Nordquist, K.K., Allen, S., Thero, C., Bhatnagar, M.

Direct pattern transfer for sub-45 nm features using nanoimprint lithography von Le, Ngoc V., Dauksher, William J., Gehoski, Kathy A., Nordquist, Kevin J., Ainley, Eric, Mangat, Pawitter

Direct pattern transfer for sub-45nm features using nanoimprint lithography von Le, Ngoc V., Dauksher, William J., Gehoski, Kathy A., Nordquist, Kevin J., Ainley, Eric, Mangat, Pawitter

4H-SiC MESFET with 2.8 W/mm power density at 1.8 GHz von Weitzel, C.E., Palmour, J.W., Carter, C.H., Nordquist, K.J.

4H-SiC MESFET with 65.7% power added efficiency at 850 MHz von Moore, K.E., Weitzel, C.E., Nordquist, K.J., Pond, L.L., Palmour, J.W., Allen, S., Carter, C.H.

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Method of forming a rim phase shifting mask and using the rim phase shifting mask to form a semiconductor device von GARZA CESAR M.,WU WEI E.,ROMAN BERNARD J.,MANGAT PANWITTER J. S.,NORDQUIST KEVIN J.,DAUKSHER WILLIAM J

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Lithographic template and method of formation and use von Nordquist, Kevin J, Baker, Jeffrey H, Dauksher, William J

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