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INTEGRATION OF VAPOR DEPOSITION PROCESS INTO PLASMA ETCH REACTOR
von
Schoepp, Alan M
,
Hudson, Eric A
,
Nicholson, Thad
,
Chandrasekharan, Ramesh
,
Serino, Andrew Clark
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INTEGRATION OF VAPOR DEPOSITION PROCESS INTO PLASMA ETCH REACTOR
von
NICHOLSON, Thad
,
CHANDRASEKHARAN, Ramesh
,
SERINO, Andrew Clark
,
HUDSON, Eric A
,
SCHOEPP, Alan M
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APPARATUS FOR PHOTORESIST DRY DEPOSITION
von
NICHOLSON, Thad
,
WU, Chenghao
,
THOMAS, Clint Edward
,
WEIDMAN, Timothy William
,
BERNEY, Butch
,
NARDI, Katie Lynn
,
SCHOEPP, Alan M
,
GU, Kevin Li
,
VOLOSSKIY, Boris
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APPARATUS FOR PHOTORESIST DRY DEPOSITION
von
Schoepp, Alan M
,
Volosskiy, Boris
,
Gu, Kevin Li
,
Nicholson, Thad
,
Berney, Butch
,
Weidman, Timothy William
,
Wu, Chenghao
,
Nardi, Katie Lynn
,
Thomas, Clint Edward
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APPARATUS FOR PHOTORESIST DRY DEPOSITION
von
NICHOLSON, Thad
,
WU, Chenghao
,
THOMAS, Clint Edward
,
WEIDMAN, Timothy William
,
BERNEY, Butch
,
NARDI, Katie Lynn
,
SCHOEPP, Alan M
,
GU, Kevin Li
,
VOLOSSKIY, Boris
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APPARATUS FOR PHOTORESIST DRY DEPOSITION
von
NICHOLSON, Thad
,
WU, Chenghao
,
THOMAS, Clint Edward
,
WEIDMAN, Timothy William
,
BERNEY, Butch
,
NARDI, Katie Lynn
,
SCHOEPP, Alan M
,
GU, Kevin Li
,
VOLOSSKIY, Boris
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7
플라즈마 에칭 반응기 내로 증기 증착 프로세스의 통합
von
SERINO ANDREW CLARK
,
CHANDRASEKHARAN RAMESH
,
NICHOLSON THAD
,
SCHOEPP ALAN M
,
HUDSON ERIC A
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8
Apparatus for dry deposition of photoresist
von
BERNEY, BUCCI
,
NICHOLSON THAD
,
SCHOEPP ALAN M
,
NARDI, CATI, LYNN
,
KOO, KEVIN, LEE
,
VOLOSSKIY BORIS
,
WIDMANN TIMOTHY WILLIAM
,
THOMAS CLINT EDWARD
,
WU CHENGHAO
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Patent
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9
Apparatus for photoresist dry deposition
von
THOMAS, CLINT EDWARD
,
VOLOSSKIY, BORIS
,
NICHOLSON, THAD
,
BERNEY, BUTCH
,
GU, KEVIN LI
,
SCHOEPP, ALAN M
,
WEIDMAN, TIMOTHY WILLIAM
,
WU, CHENG-HAO
,
NARDI, KATIE LYNN
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Patent
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10
Effect of Cations on the Structure of Bilayers Formed by Lipopolysaccharides Isolated from Pseudomonas aeruginosa PAO1
von
Kučerka, Norbert
,
Papp-Szabo, Erzsebet
,
Nieh, Mu-Ping
,
Harroun, Thad A
,
Schooling, Sarah R
,
Pencer, Jeremy
,
Nicholson, Eric A
,
Beveridge, Terry J
,
Katsaras, John
Veröffentlicht in
The journal of physical chemistry. B
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Artikel
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Coating Metallic Material
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Esp@Cenet
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