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Ultraviolet detection from energetically deposited titania films
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Memristor and selector devices fabricated from HfO2−xNx
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The plasmonic properties of argon cluster-bombarded InP surfaces
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Light-gated amorphous carbon memristors with indium-free transparent electrodes
Veröffentlicht in Carbon (New York)
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Optimizing HiPIMS pressure for deposition of high-k (k=18.3) amorphous HfO2
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