Suchergebnisse - Mullenaux, Sky | OPAC THWS

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CLOCKABLE SUBSTRATE PROCESSING PEDESTAL FOR USE IN SEMICONDUCTOR FABRICATION TOOLS von MULLENAUX, Sky, SHIVDAS, Chirag Raghunath, LINEBARGER, JR

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2

CLOCKABLE SUBSTRATE PROCESSING PEDESTAL FOR USE IN SEMICONDUCTOR FABRICATION TOOLS von MULLENAUX, Sky, SHIVDAS, Chirag Raghunath, LINEBARGER, JR., Nick Ray

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3

SHOWERHEAD TEMPERATURE BASED DEPOSITION TIME COMPENSATION FOR THICKNESS TRENDING IN PECVD DEPOSITION SYSTEM von MULLENAUX, Sky, HONG, Tu, SHEIN, Wenija, KANG, Hu, KOLLRACK, Marc, WANG, Dong

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4

SHOWERHEAD TEMPERATURE BASED DEPOSITION TIME COMPENSATION FOR THICKNESS TRENDING IN PECVD DEPOSITION SYSTEM von MULLENAUX, Sky, HONG, Tu, SHEN, Wenjia, KANG, Hu, KOLLRACK, Marc, WANG, Dong

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5

SHOWERHEAD TEMPERATURE BASED DEPOSITION TIME COMPENSATION FOR THICKNESS TRENDING IN PECVD DEPOSITION SYSTEM von MULLENAUX, Sky, HONG, Tu, SHEN, Wenjia, KANG, Hu, KOLLRACK, Marc, WANG, Dong

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6

INDEPENDENTLY ADJUSTABLE FLOWPATH CONDUCTANCE IN MULTI-STATION SEMICONDUCTOR PROCESSING von Yang, Nuoya, Qian, Jun, Roberts, Michael Philip, Williams, Brian Joseph, Phillips, Richard, Hong, Tu, Batzer, Rachel E, Mullenaux, Sky, Chandrasekharan, Ramesh, Juarez, Francisco J, Womack, Joseph L, Li, Ming

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7

PECVD 증착 시스템에서 두께 경향 (thickness trending) 에 대한 샤워헤드 온도 기반 증착 시간 보상 von SHEN WENJIA, KOLLRACK MARC, KANG HU, WANG DONG, MULLENAUX SKY, HONG TU

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8

clockable CLOCKABLE SUBSTRATE PROCESSING PEDESTAL FOR USE IN SEMICONDUCTOR FABRICATION TOOLS von LINEBARGER JR. NICK RAY, MULLENAUX SKY, SHIVDAS CHIRAG RAGHUNATH

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9

반도체 제조 툴들에서 사용하기 위한 클록 가능한 (clockable) 기판 프로세싱 페데스탈 von LINEBARGER JR. NICK RAY, MULLENAUX SKY, SHIVDAS CHIRAG RAGHUNATH

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10

Clockable substrate processing pedestal for use in semiconductor fabrication tools von SHIVDAS, CHIRAG RAGHUNATH, LINEBARGER JR., NICK RAY, MULLENAUX, SKY

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INDEPENDENTLY ADJUSTABLE FLOWPATH CONDUCTANCE IN MULTI-STATION SEMICONDUCTOR PROCESSING von CHANDRASEKHARAN, Ramesh, PHILLIPS, Richard, BATZER, Rachel E, WILLIAMS, Brian, NUOYA, Yang, MULLENAUX, Sky, ROBERTS, Michael Philip, QIAN, Jun, HONG, Tu, WOMACK, Joseph L, LI, Ming, JUAREZ, Francisco J

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Showerhead temperature based deposition time compensation for thickness trending in PECVD deposition system von SHEN, WEN-JIA, KOLLRACK, MARC, WANG, DONG, HONG, TU, MULLENAUX, SKY, KANG, HU

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Independently adjustable flowpath conductance in multi-station semiconductor processing von LI, MING, YANG, NUOYA, QIAN, JUN, HONG, TU, MULLENAUX, SKY, WILLIAMS, BRIAN, CHANDRASEKHARAN, RAMESH, PHILLIPS, RICHARD, WOMACK, JOSEPH L, ROBERTS, MICHAEL PHILIP, BATZER, RACHEL E, JUAREZ, FRANCISCO J

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멀티 스테이션 반도체 프로세싱에서 독립적으로 조정 가능한 플로우 경로 컨덕턴스 von ROBERTS MICHAEL PHILIP, NUOYA YANG, WOMACK JOSEPH L, CHANDRASEKHARAN RAMESH, PHILLIPS RICHARD, LI MING, WILLIAMS BRIAN, MULLENAUX SKY, JUAREZ FRANCISCO J, HONG TU, BATZER RACHEL E, QIAN JUN

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Independently adjustable flowpath conductance in multi-station semiconductor processing von LI, MING, YANG, NUO-YA, QIAN, JUN, HONG, TU, MULLENAUX, SKY, WILLIAMS, BRIAN, CHANDRASEKHARAN, RAMESH, PHILLIPS, RICHARD, WOMACK, JOSEPH L, ROBERTS, MICHAEL PHILIP, BATZER, RACHEL E, JUAREZ, FRANCISCO J

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