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Single-wafer integrated semiconductor device processing
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
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Thermal Nitridation of Si and SiO/sub 2/ for VLSI
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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Thermal nitridation of Si and SiO 2 for VLSI
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
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Thermal nitridation of Si and SiO2for VLSI
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Preoxidation treatment using HCl/HF vapor
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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IIIB-1 submicrometer IGFET fabrication by rapid thermal processing
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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