High-rate deposition of a-SiNx:H for photovoltaic applications by the expanding thermal plasma von Kessels, W. M. M., Hong, J., van Assche, F. J. H., Moschner, J. D., Lauinger, T., Soppe, W. J., Weeber, A. W., Schram, D. C., van de Sanden, M. C. M.

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Comprehensive study of rapid, low-cost silicon surface passivation technologies von Rohatgi, A., Doshi, P., Moschner, J., Lauinger, T., Aberle, A.G., Ruby, D.S.

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Rear-Surface Passivation Technology for Crystalline Silicon Solar Cells: A Versatile Process for Mass Production von Gassenbauer, Y., Heyer, F., Feldhaus, M., Seidl, A., Muller, M., Metz, A., Ramspeck, K., Bethmann, B., Dressler, K., Moschner, J.D., Fiedler, M., Brouwer, E., Drossler, R., Lenck, N.

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The Molecular Architecture of Focal Adhesions von Jockusch, B M, Bubeck, P, Giehl, K, Kroemker, M, Moschner, J, Rothkegel, M, Rudiger, M, Schluter, K, Stanke, G, Winkler, J

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Comments on "17.3% efficiency metal-oxide-semiconductor (MOS) solar cells with liquid-phase-deposited silicon dioxide" von Rohatgi, A., Moschner, J., Green, M.A.

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High-quality surface passivation of silicon solar cells in an industrial-type inline plasma silicon nitride deposition system von Moschner, Jens D., Henze, Jürgen, Schmidt, Jan, Hezel, Rudolf

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Rapid processing of low-cost, high-efficiency silicon solar cells von Rohatgi, A, Doshi, P, Ebong, A, Narasimha, S, Krygowski, T, Moschner, J

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Characterization and application of rapid thermal oxide surface passivation for the highest efficiency RTP silicon solar cells von Doshi, P., Moschner, J., Jeong, J., Rohatgi, A., Singh, R., Narayanan, S.

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UV stability of highest-quality plasma silicon nitride passivation of silicon solar cells von Lauinger, T., Moschner, J., Aberle, A.G., Hezel, R.

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The Orientation of Membrane Proteins Determined in Situ by Immunofluorescence Staining von Hinners, Ina, Moschner, Jutta, Nolte, Nadine, Hille-Rehfeld, Annette

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Comments on "17.3% Efficiency Metal-oxide-semiconductor (MOS) Solar Cells With Liquid-phase-deposited Silicon Dioxide" von Rohatgi, A., Moschner, J.

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High-rate deposition of a-SiN sub(x): H for photovoltaic applications by the expanding thermal plasma von Kessels, WMM, Hong, J, Van Assche, FJH, Moschner, J D, Lauinger, T, Soppe, W J, Weeber, A W, Schram, D C, Van de Sanden, MCM

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High-rate deposition of a- SiN x : H for photovoltaic applications by the expanding thermal plasma von Kessels, W. M. M., Hong, J., van Assche, F. J. H., Moschner, J. D., Lauinger, T., Soppe, W. J., Weeber, A. W., Schram, D. C., van de Sanden, M. C. M.

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Ueber das Oxy ‐ (4) ‐ hydrinden und einige neue Xylol‐ und Aethylbenzol‐Derivate von Moschner, J.

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Zur Kenntniss des Hydrindens und über ein neues Oxyhydrinden von Moschner, J.

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Ueber das Oxy - (4) - hydrinden und einige neue Xylol- und Aethylbenzol-Derivate von Moschner, J.

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Zur Kenntniss des Hydrindens und über ein neues Oxyhydrinden von Moschner, J.

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Thermo-catalytic deposition of silicon nitride - a new method for excellent silicon surface passivation von Moschner, J.D., Schmidt, J., Hezel, R.

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Studies of pear-shaped nuclei using accelerated radioactive beams von Gaffney, L. P., Butler, P. A., Scheck, M., Hayes, A. B., Wenander, F., Albers, M., Bastin, B., Bauer, C., Blazhev, A., Bönig, S., Bree, N., Cederkäll, J., Chupp, T., Cline, D., Cocolios, T. E., Davinson, T., De Witte, H., Diriken, J., Grahn, T., Herzan, A., Huyse, M., Jenkins, D. G., Joss, D. T., Kesteloot, N., Konki, J., Kowalczyk, M., Kröll, Th, Kwan, E., Lutter, R., Moschner, K., Napiorkowski, P., Pakarinen, J., Pfeiffer, M., Radeck, D., Reiter, P., Reynders, K., Rigby, S. V., Robledo, L. M., Rudigier, M., Sambi, S., Seidlitz, M., Siebeck, B., Stora, T., Thoele, P., Van Duppen, P., Vermeulen, M. J., von Schmid, M., Voulot, D., Warr, N., Wimmer, K., Wrzosek-Lipska, K., Wu, C. Y., Zielinska, M.

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Installation and commissioning of EURICA – Euroball-RIKEN Cluster Array von Söderström, P.-A., Nishimura, S., Doornenbal, P., Lorusso, G., Sumikama, T., Watanabe, H., Xu, Z.Y., Baba, H., Browne, F., Go, S., Gey, G., Isobe, T., Jung, H.-S., Kim, G.D., Kim, Y.-K., Kojouharov, I., Kurz, N., Kwon, Y.K., Li, Z., Moschner, K., Nakao, T., Nishibata, H., Nishimura, M., Odahara, A., Sakurai, H., Schaffner, H., Shimoda, T., Taprogge, J., Vajta, Zs, Werner, V., Wu, J., Yagi, A., Yoshinaga, K.

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