Suchergebnisse - Moreau, Wayne M.

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Semiconductor Lithography: Principles, Practices, and Materials von Moreau, Wayne M

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Semiconductor Lithography: Principles, Practices, and Materials von Moreau, Wayne M

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Aqueous-based photoresist drying using supercritical carbon dioxide to prevent pattern collapse von Goldfarb, Darı́o L., de Pablo, Juan J., Nealey, Paul F., Simons, John P., Moreau, Wayne M., Angelopoulos, Marie

Veröffentlicht in Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

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Charge-Transfer Complexes of Disulfides with Tetracyanoethylene von Moreau, Wayne M, Weiss, Karl

Veröffentlicht in Journal of the American Chemical Society

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Charge Transfer Properties of dl -Thioctic Acid and Other Disulphides von MOREAU, WAYNE M, WEISS, KARL

Veröffentlicht in Nature (London)

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Transfer apparatus for degassed solutions von Moreau, Wayne M, Tyler, Theodore A, Weiss, Karl

Veröffentlicht in Journal of chemical education

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7

Apparatus and method for the rapid thermal control of a work piece in liquid or supercritical fluid von SIMONS JOHN P, TAFT CHARLES J, MCCULLOUGH KENNETH J, COTTE JOHN M, GOLDFARB DARIO L, MOREAU WAYNE M, POPE KEITH R

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Use of mixed bases to enhance patterned resist profiles on chrome or sensitive substrates von Moreau, Wayne M, Angelopoulos, Marie, Huang, Wu-Song, Medeiros, David R, Petrillo, Karen E

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9

Use of mixed bases to enhance patterned resist profiles on chrome or sensitive substrates von HUANG WU-SONG, MEDEIROS DAVID R, PETRILLO KAREN E, MOREAU WAYNE M, ANGELOPOULOS MARIE

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APPARATUS AND METHOD FOR THE RAPID THERMAL CONTROL OF A WORK PIECE IN LIQUID OR SUPERCRITICAL FLUID von SIMONS JOHN P, TAFT CHARLES J, MCCULLOUGH KENNETH J, COTTE JOHN M, GOLDFARB DARIO L, MOREAU WAYNE M, POPE KEITH R

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PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE A L'AIDE D'UN MATERIAU PHOTORESISTANT POSITIF von EDWARD GIPSTEIN, WAYNE M. MOREAU, OMAR U. NEED III

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PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE AVEC UNE MATIERE PHOTORESISTANTE A BASE DE POLYSULFONE von EDWARD GIPSTEIN, WAYNE M. MOREAU, OMAR U. NEED III

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Apparatus and method for the rapid thermal control of a work piece in liquid or supercritical fluid von SIMONS JOHN P, TAFT CHARLES J, MCCULLOUGH KENNETH J, COTTE JOHN M, GOLDFARB DARIO L, MOREAU WAYNE M, POPE KEITH R

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Radiation Exposure von Moreau, Wayne M.

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Process Controls von Moreau, Wayne M.

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Developing Resist Images von Moreau, Wayne M.

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Negative Radiation Resists von Moreau, Wayne M.

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Positive Photoresists von Moreau, Wayne M.

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Summary and Future Processes von Moreau, Wayne M.

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Positive Radiation Resists von Moreau, Wayne M.

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