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Top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200 °C)
Veröffentlicht in Thin solid films
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SiGe derivatization by spontaneous reduction of aryl diazonium salts
Veröffentlicht in Applied surface science
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Decreasing the thickness of the active layer of microcrystalline silicon TFTs
Veröffentlicht in Physica status solidi. C
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Excimer laser annealing of microcrystalline silicon
Veröffentlicht in Physica status solidi. C
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μc-Si thin film transistors with very thin active layer
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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High mobility thin film transistors by Nd:YVO4-laser crystallization
Veröffentlicht in Thin solid films
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