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Germanium Multiple-Gate Field-Effect Transistors Formed on Germanium-on-Insulator Substrate
von
Bin Liu
,
Xiao Gong
,
Chunlei Zhan
,
Genquan Han
,
Hock-Chun Chin
,
Moh-Lung Ling
,
Jie Li
,
Yongdong Liu
,
Jiangtao Hu
,
Daval, N.
,
Veytizou, C.
,
Delprat, D.
,
Bich-Yen Nguyen
,
Yee-Chia Yeo
Veröffentlicht in
IEEE transactions on electron devices
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Methods for enhancing photolithography patterning
von
QUAN CHENGGEN
,
LIN QUNYING
,
LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
TAY CHO JUI
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Mask system employing substantially circular optical proximity correction target and method of manufacture thereof
von
TAN SIA KIM
,
CHONG RYAN KHOON KHYE
,
LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
YEO KWEE LIANG MARTIN
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METHODS FOR ENHANCING PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING
von
QUAN CHENGGEN
,
LIN QUNYIN
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LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
TAY CHO JUI
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METHODS FOR ENHANCING PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING
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QUAN CHENGGEN
,
LIN QUNYING
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LING MOH LUNG
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CHUA GEK SOON
,
TAY CHO JUI
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MASK SYSTEM EMPLOYING SUBSTANTIALLY CIRCULAR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION TARGET AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF
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TAN SIA KIM
,
CHONG RYAN KHOON KHYE
,
LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
YEO KWEE LIANG MARTIN
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Method of manufacture of a mask system employing circular optical proximity correction target
von
YEO, KWEE LIANG MARTIN
,
CHUA, GEK SOON
,
TAN, SIA KIM
,
CHONG, RYAN KHOON KHYE
,
LING, MOH LUNG
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METHODS FOR ENHANCING PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING
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SOON CHUA GEK
,
CHENGGEN QUAN
,
QUNYIN LIN
,
JUI TAY CHO
,
LUNG LING MOH
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Mask system employing optical proximity correction target and method of manufacture thereof
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TAN SIA KIM
,
CHONG RYAN KHOON KHYE
,
LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
YEO KWEE LIANG MARTIN
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MASK SYSTEM EMPLOYING SUBSTANTIALLY CIRCULAR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION TARGET AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF
von
KIM TAN SIA
,
SOON CHUA GEK
,
LIANG MARTIN YEO KWEE
,
KHYE RYAN CHONG KHOON
,
LUNG LING MOH
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Mask system employing substantially circular optical proximity correction target and method of manufacture thereof
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YEO, KWEE LIANG MARTIN
,
CHUA, GEK SOON
,
TAN, SIA KIM
,
CHONG, RYAN KHOON KHYE
,
LING, MOH LUNG
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Mask system employing substantially circular optical proximity correction target and method of manufacture thereof
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TAN SIA KIM
,
CHONG RYAN KHOON KHYE
,
LING MOH LUNG
,
CHUA GEK SOON
,
YEO KWEE LIANG MARTIN
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