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    Nanocrystalline Silicon Thin Films Fabricated at 80°C by Using Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition

    Nanocrystalline Silicon Thin Films Fabricated at 80°C by Using Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition von Bu, I. Y. Y, Flewitt, A. J, Miline, W. I

    Veröffentlicht in Plasma science & technology

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    Nanocrystalline Silicon Thin Films Fabricated at 80℃ by Using Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition

    Nanocrystalline Silicon Thin Films Fabricated at 80℃ by Using Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition von I. Y. Y. BU A. J. FLEWITT W. I. MILINE

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