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Multiple Gate Oxide Technology Using Fluorine Implantation
von
Woerlee, P.H.
,
Knitel, M.J.
,
Meyssen, V.M.H.
,
Velghe, R.M.D.A.
,
Zegers van Duijnhoven, A.T.A.
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2
Using Ge pre-amorphisation and spike annealing for optimizing shallow junctions in deep-submicron CMOS
von
Meyssen, V.M.H.
,
Stolk, P.A.
,
van Zijl, J.P.
,
van Berkum, J.G.M.
,
van der Wijgert, W.G.
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Low thermal budget 6 nm furnace N2O-nitrided gate oxides
von
Paulzen, G.M.
,
Hutten, E.K.H.
,
Meyssen, V.M.H
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4
Optimized Scaled LOCOS Isolation Scheme for 0.25 μm CMOS
von
Meyssen, V.M.H.
,
Velghe, R.M.D.A.
,
Montree, A.H.
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