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Simulation study of ‘perfect lenses’ for near-field optical nanolithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Low temperature nanoimprint lithography using silicon nitride molds
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Nanolithography using optical contact exposure in the evanescent near field
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Managing complexity in a distributed digital library
Veröffentlicht in Computer (Long Beach, Calif.)
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