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Light-gated amorphous carbon memristors with indium-free transparent electrodes
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The structural phases of non-crystalline carbon prepared by physical vapour deposition
Veröffentlicht in Carbon (New York)
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Optimizing HiPIMS pressure for deposition of high-k (k=18.3) amorphous HfO2
Veröffentlicht in Applied surface science
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The mechanical properties of energetically deposited non-crystalline carbon thin films
Veröffentlicht in Carbon (New York)
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Plasma-based ion implantation utilising a cathodic arc plasma
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