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    Thin silicon carbonitride films are perspective low- k materials

    Thin silicon carbonitride films are perspective low- k materials von Fainer, N.I., Kosinova, M.L., Rumyantsev, Yu. M., Maximovskii, E.A., Kuznetsov, F.A.


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    The investigation of properties of silicon nitride films obtained by RPECVD from hexamethyldisilazane

    The investigation of properties of silicon nitride films obtained by RPECVD from hexamethyldisilazane von Fainer, N.I., Rumyantsev, Yu.M., Kosinova, M.L., Yurjev, G.S., Maximovskii, E.A., Kuznetsov, F.A.

    Veröffentlicht in Applied surface science

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    Plasma-deposited CdS layers from (o-phen) bis (diethyldithiocarbamate) cadmium

    Plasma-deposited CdS layers from (o-phen) bis (diethyldithiocarbamate) cadmium von Fainer, N.I, Rumyantsev, Yu.M, Salman, E.G, Kosinova, M.L, Yurjev, G.S, Sysoeva, N.P, Maximovskii, E.A, Sysoev, S.V, Golubenko, A.N

    Veröffentlicht in Thin solid films

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