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Fault detection of plasma etchers using optical emission spectra
von
Yue, H.H.
,
Qin, S.J.
,
Markle, R.J.
,
Nauert, C.
,
Gatto, M.
Veröffentlicht in
IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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Shallow trench isolation scatterometry metrology in a high volume fab
von
Lensing, K.R.
,
Markle, R.J.
,
Stirton, B.
,
Laughery, M.A.
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