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Nanofabrication toward sub-10 nm and its application to novel nanodevices
Veröffentlicht in Nanotechnology
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Resolution of calixarene resist under low energy electron irradiation
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Accurate nano-EB lithography for 40-nm gate MOSFETs
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Calixarene electron beam resist for nano-lithography
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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