Suchergebnisse - Manaf, M.J. | OPAC THWS

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Characterization of Robust Alignment Mark to Improve Alignment Performance von Ahmad, N., Hashim, U., Manaf, M.J., Ibrahim, K.

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2

The Characterization of KrF Photoresists and the Effect of Different Chromophore Bulkiness on Line Edge Roughness (LER) for Submicron Technology von Bakri, A.Y.M., Manaf, M.J., Wahab, K.I.A., Bin Ahmad, I.

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3

Contact Hole Printing in Binary Mask by FLEX Technique von Cheong Yew Shun, Ko Bong Sang, Bin Manaf, M.J., Ibrahim, K., Jamal, Z.A.Z.

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4

Contact Hole Process Printability Beyond 180nm On Binary Mask von Cheong Yew Shun, Ko Bong Sang, Bin Manaf, M.J., Ibrahim, K., Jamal, Z.A.Z.

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5

The Characterization of KrF Photoresists and the Effect of Different Ultraviolet (UV) Absorption Rates on Line Edge Roughness (LER) for Submicron Technology von bin Mohd Bakri, A.Y., Manaf, M.J., Abdul Wahab, K.I., Bin Ahmad, M.I.

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6

A Study of Center Field Stripe Yield Loss Mechanism von Maurya, A., Bin Manaf, M.J., Abdul Rahman, Z., Sim Jit-Shen, Chong Seng Ong, Thung Beng Joo

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7

Review on statistical approaches for automatic image annotation von Manaf, S.A., Nordin, M.J.

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