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Si etching with reactive neutral beams of very low energy
Veröffentlicht in Journal of applied physics
VolltextArtikel -
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Development of Neutral Beam Source Using Electron Beam Excited Plasma
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Control of Floating Potential in an Electron-Beam-Excited Plasma
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
VolltextArtikel -
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13
Potential profiles in an electron-beam-excited plasma
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Development of Neutral Beam Source Using Electron Beam Excited Plasma
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
VolltextArtikel -
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1 kA low‐energy electron‐beam source
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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A dc high-current low-energy electron beam gun
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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