Suchergebnisse - Makise, Sayaka | OPAC THWS

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METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR WAFER von TAKAHASHI, Ryosuke, MAKISE, Sayaka, KUBOTA, Mami

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2

Method of evaluating silicon layer and a method of manufacturing silicon epitaxial wafer von Samata, Shuichi, Makise, Sayaka, Miyazaki, Sumio, Mitsugi, Noritomo

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3

TWI825859B von MAKISE, SAYAKA, TAKAHASHI, RYOSUKE, KUBOTA, MAMI

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4

VERFAHREN ZUR BEWERTUNG EINER SILICIUMSCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILICIUMEPITAXIEWAFERS von Samata, Shuichi, Makise, Sayaka, Miyazaki, Sumio, Mitsugi, Noritomo

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5

실리콘 웨이퍼의 접촉각 측정 방법 및 실리콘 웨이퍼의 표면 상태의 평가 방법 von MAKISE SAYAKA, TAKAHASHI RYOSUKE, KUBOTA MAMI, MITSUGI NORITOMO, SAMATA SHUICHI

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6

VERFAHREN ZUR BEWERTUNG EINER SILICIUMSCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILICIUMEPITAXIEWAFERS von Samata, Shuichi, Makise, Sayaka, Miyazaki, Sumio, Mitsugi, Noritomo

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7

실리콘층의 평가 방법 및 실리콘 에피택셜 웨이퍼의 제조 방법 von MIYAZAKI SUMIO, MAKISE SAYAKA, SAMATA SHUICHI, MITSUGI NORITOMO

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8

Evaluation method for silicon layer and a method for manufacturing epitaxial silicon wafer von MAKISE, SAYAKA, SAMATA, SHUICHI, MITSUGI, NORITOMO, MIYAZAKI, SUMIO

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9

A11 Immobilization of Pt nanoparticles on the surface of TiO_2 by sonochemical reduction method : photocatalytic production of hydrogen from an aqueous solution of ethanol von MAKISE, Yohji, HAMAGUCHI, Sayaka, SHIRONITA, Sayoko, SHUTOU, Tatsuya, MIZUKOSHI, Yoshiteru, TANABE, Shuji

Veröffentlicht in Proceedings of the Annual Meeting of the Japan Society of Sonochemistry

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