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The choice of beamsplitter for minimum exposure time in photoresist holography
Veröffentlicht in Optics communications
VolltextArtikel -
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Sensitivity and Non-linearity of Shipley AZ-1375 Photoresist at 441·6 and 457·9 nm
Veröffentlicht in Optica acta
VolltextArtikel -
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