Making alignment mark in opaque layer on substrate, forms trenches of differing depth, fills selectively, then adds and polishes further layers to leave defined opaque mark von HOLLATZ, MARK, MOLL, HANS-PETER, MOTHES, KERSTIN

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Method for fabricating a trench isolation structure von HOLLATZ MARK, SCHMITT FLORIAN, KLIPP ANDREAS, MOTHES KERSTIN

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Method for fabricating a trench isolation structure von Klipp, Andreas, Mothes, Kerstin, Schmitt, Florian, Hollatz, Mark

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Production of a shallow trench insulation structure used in the production of integrated circuits comprises forming a mask on a substrate, forming trenches in the substrate using a... von SCHMITT, FLORIAN, HOLLATZ, MARK, KLIPP, ANDREAS, MOTHES, KERSTIN

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Integrated circuit formed on a semiconductor substrate von RADECKER JORG, LUDWIG FRANK, BIRNER ALBERT, WILSON KIMBERLY, WEBER ANDREAS, MOTHES KERSTIN

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Verfahren zum Bilden einer Justiermarke in einer lichtundurchlässigen Schicht auf einem Substrat von HOLLATZ, MARK, MOLL, HANS-PETER, MOTHES, KERSTIN

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Verfahren zur Herstellung einer Grabenisolationsstruktur von SCHMITT, FLORIAN, HOLLATZ, MARK, KLIPP, ANDREAS, MOTHES, KERSTIN

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VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SPEZIALREINEN GELBEN BLEIMONOXIDS von KACHOLDT,WERNER,DE, JAEGER,GUENTER,DE, DANZER,KLAUS,DE, BERNHARDT,HANSJOCHEN,DE, DIMMIG,THOMAS,DE, DIMMIG,ANDREA,DE, MOTHES,HEINRICH,DE, GURTSCHKE,KERSTIN,DE

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