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Copolymerization of t-butoxycarbonyloxystyrene and sulfur dioxide
Veröffentlicht in Polymer engineering and science
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193 nm lithography using a negative acting P(SI-CMS) resist
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Ultrapurification of SiCl 4 by photochlorination in a bubble column reactor
Veröffentlicht in AIChE journal
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Ultrapurification of SiCl4 by photochlorination in a bubble column reactor
Veröffentlicht in AIChE journal
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