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HIGH DENSITY PLASMA DIELECTRIC DESPOSITION FOR VOID FREE GAP FILL
von
GALLEGOS JOSEPH A
,
MICKLER EDWARD L
,
YUE DUOFENG
,
WOFFORD BILL ALAN
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Control of Vmin transient voltage drift by maintaining a temperature less than or equal to 350° C. after the protective overcoat level
von
BRUGLER MERCER L
,
MICKLER EDWARD L
,
ZUHOSKI STEVEN P
,
GROSS CAMERON
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Control of Vmin transient voltage drift by maintaining a temperature less than or equal to 350° C. after the protective overcoat level
von
Zuhoski, Steven P
,
Brugler, Mercer L
,
Gross, Cameron
,
Mickler, Edward L
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Control of Vmin transient voltage drift by maintaining a temperature less than or equal to 350°C after the protective overcoat level
von
BRUGLER MERCER L
,
MICKLER EDWARD L
,
ZUHOSKI STEVEN P
,
GROSS CAMERON
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5
Control of Vmin transient voltage drift by using a PECVD silicon oxynitride film at the protective overcoat level
von
BRUGLER MERCER L
,
MICKLER EDWARD L
,
ZUHOSKI STEVEN P
,
GROSS CAMERON
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6
Control of Vmin transient voltage drift by using silicon formed with deuterium-based process gases
von
BRUGLER MERCER L
,
MICKLER EDWARD L
,
ZUHOSKI STEVEN P
,
GROSS CAMERON
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