A novel two component positive photoresist for deep UV lithography von Pawlowski, Georg, Dammel, Ralph, Lindley, Charlet R., Merrem, Hans-Joachim, Röschert, Heinz, Wilharm, Peter

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Properties of a high resolution negative photoresist von Neisius, K., Merrem, H. J.

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A Percolation View of Novolak Dissolution. 3. Dissolution Inhibition von Shih, Hsiao-Yi, Yeh, Tung-Feng, Reiser, Arnost, Dammel, Ralph R, Merrem, Hans J, Pawlowski, Gerhard

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A percolation view of novolak dissolution. III: Dissolution inhibition von HSIAO-YI SHIH, TUNG-FENG YEH, REISER, A, DAMMEL, R. R, MERREM, H. J, PAWLOWSKI, G

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Darstellung und Konformationsuntersuchungen von cis‐ und trans‐Isomeren des 1,2,4,5‐Tetramethyl‐3,6‐diphenoxy‐3,6‐dithioxo‐1,2,4,5‐tetraaza‐3,6‐diphosphacyclohexans... von Bünger, T., Merrem, H. J., Engelhardt, U.

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ETUDE DE L'ACTION DE PHOSPHODIHYDRAZIDES SUR DES ALDEHYDES OU DES CETONES α-ETHYLENIQUES von Merrem, H. J., Majoral, J. P., Navech, J.

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Analysis of expert judgments in a hail forecasting experiment von STEWART, T. R, MONINGER, W. R, GRASSIA, J, BRADY, R. H, MERREM, F. H

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Structure of an evolving hailstorm. V - Synthesis and implications for hail growth and hail suppression von Browning, K A, Fankhauser, J C, Eccles, P J, Strauch, R G, MERREM, F H, Musil, D J, May, E L, Sand, W R, Chalon, J-p

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A Thunderstorm Gust-Front Detection System. Part I. System Operation and Significant Case Studies. Part II. Statistical Results von Bedard,A J , Jr, Merrem ,F H, Simms ,D, Cairns,M M

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