Suchergebnisse - MELAS ANDREAS A

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Nitrogen doping of ZnSe by OMVPE using a novel organometallic precursor von Akram, Salman, Bhat, Ishwara B., Melas, Andreas A.

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Compound semiconductor modified surface by use of pulsed electron beam and ion implantation through a deposited metal layer von MELAS ANDREAS A

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Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von Melas, Andreas A

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Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von MELAS ANDREAS A

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Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von MELAS ANDREAS A

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MOCVD of indium oxide and indium/tin oxide films on substrates von MELAS, ANDREAS A

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METHOD OF PRODUCING HALIDE-FREE METAL OXIDES von MELAS, ANDREAS A

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PROCESS FOR TRANSITION METAL NITRIDES THIN FILM DEPOSITION von MELAS, ANDREAS A

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Method of producing halide-free metal and hydroxides von MELAS, ANDREAS A

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Gallium hydride/trialkylamine adducts, and their use in deposition of III-V compound films von MELAS, ANDREAS A

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Method of producing halide-free metal oxides von MELAS, ANDREAS A

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METHOD OF PRODUCING HALIDE FREE METAL OXIDES von ANDREAS A. MELAS

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Process for transition metal nitrides thin film deposition von MELAS, ANDREAS A

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GALLIUM HYDRIDE/TRIALKYLAMINE ADDUCTS, AND THEIR USE IN DEPOSITION OF III-V COMPOUND FILMS von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

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New Sales Manager for AIXTRON North America von Melas, Andreas A.

Veröffentlicht in III-Vs review

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Method for vapor phase deposition of gallium nitride film von MELAS, ANDREAS A, BRAUNAGEL, NORBERT

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Gallium Hydride/trialkylamine adducts, and their use in deposition of III-V compound films von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

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GALLIUMTRIALKYLAMINADDITIONSPRODUKTER OG DERES ANVENDELSE von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

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GALLIUM HYDRIDE-TRIALKYLAMINE ADDUCTS,AND THEIR USE IN DEPOSITION OF III-V COMPOUND FILMS von ANDREAS A. MELAS, NORBERT BRAUNAGEL

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HYBRID ORGANOMETALLIC COMPOUNDS, PARTICULARY FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION von MELAS ANDREAS A, HWI BENJAMIN C, LORBERTH JOERG

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Nitrogen doping of ZnSe by OMVPE using a novel organometallic precursor von Akram, Salman, Bhat, Ishwara B., Melas, Andreas A.

Compound semiconductor modified surface by use of pulsed electron beam and ion implantation through a deposited metal layer von MELAS ANDREAS A

Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von Melas, Andreas A

Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von MELAS ANDREAS A

Method to reduce crystal defects particularly in group III-nitride layers and substrates von MELAS ANDREAS A

MOCVD of indium oxide and indium/tin oxide films on substrates von MELAS, ANDREAS A

METHOD OF PRODUCING HALIDE-FREE METAL OXIDES von MELAS, ANDREAS A

PROCESS FOR TRANSITION METAL NITRIDES THIN FILM DEPOSITION von MELAS, ANDREAS A

Method of producing halide-free metal and hydroxides von MELAS, ANDREAS A

Gallium hydride/trialkylamine adducts, and their use in deposition of III-V compound films von MELAS, ANDREAS A

Method of producing halide-free metal oxides von MELAS, ANDREAS A

METHOD OF PRODUCING HALIDE FREE METAL OXIDES von ANDREAS A. MELAS

Process for transition metal nitrides thin film deposition von MELAS, ANDREAS A

GALLIUM HYDRIDE/TRIALKYLAMINE ADDUCTS, AND THEIR USE IN DEPOSITION OF III-V COMPOUND FILMS von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

New Sales Manager for AIXTRON North America von Melas, Andreas A.

Method for vapor phase deposition of gallium nitride film von MELAS, ANDREAS A, BRAUNAGEL, NORBERT

Gallium Hydride/trialkylamine adducts, and their use in deposition of III-V compound films von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

GALLIUMTRIALKYLAMINADDITIONSPRODUKTER OG DERES ANVENDELSE von BRAUNAGEL, NORBERT, MELAS, ANDREAS A

GALLIUM HYDRIDE-TRIALKYLAMINE ADDUCTS,AND THEIR USE IN DEPOSITION OF III-V COMPOUND FILMS von ANDREAS A. MELAS, NORBERT BRAUNAGEL

HYBRID ORGANOMETALLIC COMPOUNDS, PARTICULARY FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION von MELAS ANDREAS A, HWI BENJAMIN C, LORBERTH JOERG

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