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The influence of feature-scale surface geometry on CMP processes
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Metalorganic chemical vapor deposition of TiN films for advanced metallization
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Remote plasma deposition of aluminum nitride
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Aristotle on equality and market exchange
Veröffentlicht in The Journal of Hellenic studies
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Pressure-dependent transition in the mechanism of remote plasma SiN x deposition
Veröffentlicht in Applied physics letters
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