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SPUTTERING TARGET MADE OF COBALT-BASE ALLOY HAVING HIGH MAGNETICH FIELD PENETRATION FACTOR
von
YOOZEFU HAINDERU
,
MARUTEIN SHIYUROTSUTO
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2
PRODUCTION OF SPUTTER TARGET BASED ON INDIUM/TIN OXIDE POWDERY MIXTURE,PARTIALLY REDUCED AND USED FOR CATHODE SPUTTERING,AND TARGET PRODUCED THEREBY
von
MARUTEIN SHIYUROTSUTO
,
MARUTEIN BUAIGERUTO
,
BUORUFUGANKU DAUTO
,
BURUUSU GEEMAN
,
MARUTEIN KUTSUNAA
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3
INDIUM OXIDE/TIN OXIDE SPUTTER TARGET AND METHOD OF PREPARING IT
von
MARUTEIN SHIYUROTSUTO
,
BUORUFUGANGU DAUTO
,
SHIYOON BUAARUSUTOROOMU
,
BURUUSU GEEMAN
,
MARUTEIN KUTSUTSUNAA
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Patent
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4
SPUTTERING TARGET FOR CATHODIC SPUTTERING AND PREPARATION OFSAID TARGET
von
UBUE KONIITSUKA
,
MARUTEIN SHIYUROTSUTO
,
SHIYOON BUAARUSUTOROOMU
,
BURUUSU GEEMAN
,
MARUTEIN KUTSUNAA
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5
TARGET FOR MAGNETRON-CATHODE SPUTTERING DEVICE AND ITS PREPARATION
von
MARUTEIN SHIYUROTSUTO
,
MARUTEIN BUAIGERUTO
,
KUWAI TEN
,
BURUUSU GEEMAN
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Patent
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Chemistry
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Basic Electric Elements
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Esp@Cenet
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