Suchergebnisse - Loschner, Hans

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Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process von Hirscher, S., Kümmel, M., Kirch, O., Domke, W.-D., Wolter, A., Käsmaier, R., Buschbeck, H., Cekan, E., Chalupka, A., Chylik, A., Eder, S., Horner, C., Löschner, H., Nowak, R., Stengl, G., Windischbauer, T., Zeininger, M.

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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Influence of Silicon on Insulator Wafer Stress Properties on Placement Accuracy of Stencil Masks von Kamm, Frank-Michael, Ehrmann, Albrecht, Schäfer, Herbert, Pamler, Werner, Käsmaier, Rainer, Butschke, Jörg, Springer, Reinhard, Haugeneder, Ernst, Löschner, Hans

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

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Der Schutz des Ingenieurtitels in Österreich, von Ing. Dr. H. Löschner, mit einer Äusserung des königl. Geheimen Regierungs-rates Prof. Riedler : c.1 von Löschner, Hans

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Ueber Sonnenuhren von Loeschner, Hans

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5

Über Sonnenuhren : Beiträge zu ihrer Geschichte und Konstruktion, nebst Aufstellung einer Fehlertheorie / von Dr. Hans Löschner ... Mit 72 Abbildungen im Texte : c.1 von Löschner, Hans

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Fischwege in stauanlagen. Leitmomente für ihre zweckmässige anordnung von Löschner, Hans, 1874-1956

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Über Sonnenuhren : Beiträge zu ihrer Geschichte und Konstruktion, nebst Aufstellung einer Fehlertheorie / von Hans Löschner von Löschner, Hans, 1874-1956

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Ion projection lithography: status of tool and mask developments von Kaesmaier, Rainer, Ehrmann, Albrecht, Löschner, Hans

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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9

Ion Projection Lithography: Progress of European MEDEA & International Program von Kaesmaier, Rainer, Löschner, Hans

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10

Ion projection lithography: International development program von Kaesmaier, Rainer, Löschner, Hans, Stengl, Gerhard, Wolfe, John C., Ruchhoeft, Paul

Veröffentlicht in Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von Stengl, Gerhard, Platzgummer, Elmar, Loschner, Hans

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von LOSCHNER HANS, STENGL GERHARD, PLATZGUMMER ELMAR

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von GERHARD STENGL, HANS LOSCHNER, ELMAR PLATZGUMMER

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von Stengl, Gerhard, Platzgummer, Elmar, Loschner, Hans

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Multi-beam tool for cutting patterns von Platzgummer Elmar, Löschner Hans

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von LOSCHNER HANS, STENGL GERHARD, PLATZGUMMER ELMAR

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Charged-particle multi-beam exposure apparatus von GERHARD STENGL, HANS LOSCHNER, ELMAR PLATZGUMMER

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Multi-Beam Tool for Cutting Patterns von LÖSCHNER HANS, PLATZGUMMER ELMAR

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Multi-Beam Tool for Cutting Patterns von LÖSCHNER HANS, PLATZGUMMER ELMAR

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Apparatus for enhancing the lifetime of stencil masks von Loschner, Hans, Platzgummer, Elmar, Stengl, Gerhard

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Influence of Silicon on Insulator Wafer Stress Properties on Placement Accuracy of Stencil Masks von Kamm, Frank-Michael, Ehrmann, Albrecht, Schäfer, Herbert, Pamler, Werner, Käsmaier, Rainer, Butschke, Jörg, Springer, Reinhard, Haugeneder, Ernst, Löschner, Hans

Der Schutz des Ingenieurtitels in Österreich, von Ing. Dr. H. Löschner, mit einer Äusserung des königl. Geheimen Regierungs-rates Prof. Riedler : c.1 von Löschner, Hans

Ueber Sonnenuhren von Loeschner, Hans

Über Sonnenuhren : Beiträge zu ihrer Geschichte und Konstruktion, nebst Aufstellung einer Fehlertheorie / von Dr. Hans Löschner ... Mit 72 Abbildungen im Texte : c.1 von Löschner, Hans

Fischwege in stauanlagen. Leitmomente für ihre zweckmässige anordnung von Löschner, Hans, 1874-1956

Über Sonnenuhren : Beiträge zu ihrer Geschichte und Konstruktion, nebst Aufstellung einer Fehlertheorie / von Hans Löschner von Löschner, Hans, 1874-1956

Ion projection lithography: status of tool and mask developments von Kaesmaier, Rainer, Ehrmann, Albrecht, Löschner, Hans

Ion Projection Lithography: Progress of European MEDEA & International Program von Kaesmaier, Rainer, Löschner, Hans

Ion projection lithography: International development program von Kaesmaier, Rainer, Löschner, Hans, Stengl, Gerhard, Wolfe, John C., Ruchhoeft, Paul

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von Stengl, Gerhard, Platzgummer, Elmar, Loschner, Hans

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von LOSCHNER HANS, STENGL GERHARD, PLATZGUMMER ELMAR

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von GERHARD STENGL, HANS LOSCHNER, ELMAR PLATZGUMMER

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von Stengl, Gerhard, Platzgummer, Elmar, Loschner, Hans

Multi-beam tool for cutting patterns von Platzgummer Elmar, Löschner Hans

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von LOSCHNER HANS, STENGL GERHARD, PLATZGUMMER ELMAR

Charged-particle multi-beam exposure apparatus von GERHARD STENGL, HANS LOSCHNER, ELMAR PLATZGUMMER

Multi-Beam Tool for Cutting Patterns von LÖSCHNER HANS, PLATZGUMMER ELMAR

Multi-Beam Tool for Cutting Patterns von LÖSCHNER HANS, PLATZGUMMER ELMAR

Apparatus for enhancing the lifetime of stencil masks von Loschner, Hans, Platzgummer, Elmar, Stengl, Gerhard

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