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    Fabrication of Sputtering Sources by Plasma Spraying: Tantalum‐Hafnium Mixtures

    Fabrication of Sputtering Sources by Plasma Spraying: Tantalum‐Hafnium Mixtures von Locker, L. D., Malm, D. L.


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    Preparation of Hafnium-Tantalum Nitride Films by Reactive Alloy Sputtering

    Preparation of Hafnium-Tantalum Nitride Films by Reactive Alloy Sputtering von Locker, L. D., Naegele, C. L., Vratny, F.


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    Hafnium tantalum nitride resistive sea for the silicon diode-array camera tube target

    Hafnium tantalum nitride resistive sea for the silicon diode-array camera tube target von Ballamy, W.C., Knolle, W.R., Locker, L.D.


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