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Ion implantation technology for silicon carbide
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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Effects of Back Contact Instability on Cu2ZnSnS4 Devices and Processes
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Al Implantation in Sic; Where Will the Ions Come to Rest?
Veröffentlicht in Solid State Phenomena
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Recent Advances in the Doping of 4H-SiC by Channeled Ion Implantation
Veröffentlicht in Materials science forum
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Channeled Implantations of p-Type Dopants into 4H-SiC at Different Temperatures
Veröffentlicht in Materials science forum
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Surface Erosion of Ion-Implanted 4H-SiC during Annealing with Carbon Cap
Veröffentlicht in Materials science forum
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Influence of Carbon Cap on Self-Diffusion in Silicon Carbide
Veröffentlicht in Crystals (Basel)
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Solar Driven Energy Conversion Applications Based on 3C-SiC
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Alkali Metal Re-Distribution after Oxidation of 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials Science Forum
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Donor-acceptor-pair emission characterization in N-B doped fluorescent SiC
Veröffentlicht in Optical materials express
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Compensation in boron-doped CVD diamond
Veröffentlicht in Physica status solidi. A, Applications and materials science
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