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The electrical properties of chemical vapor deposited silicon oxide films for applications as interlayer dielectrics in ULSI
von
Loiko, K.V.
,
Vassiliev, V.Y.
,
Chee Tee Chua
,
Lim, D.H.Y.
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Methodology for ULSI LOCOS isolation built-in reliability analysis
von
Loiko, K.V.
,
Peidous, I.V.
,
Hok-Min Ho
,
Quek, E.K.B.
,
Lim, D.H.Y.
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Ieee Electronic Library (Iel) Conference Proceedings
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