Large area Silicon-energy filters for ion implantation von Steinbach, T., Csato, C., Krippendorf, F., Letzkus, F., Rüb, M., Burghartz, J.N.

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Micro Alkaline Fuel Cell supported by MEMS-based Backbone von Pilaski, M, Sun, S-H, Dura, G, Wartmann, J, Letzkus, F, Heinzel, A

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Understanding the cultural health belief model influencing health behaviors and health-related quality of life between Latina and Asian-American breast cancer survivors von Lim, Jung-won, Gonzalez, Patricia, Wang-Letzkus, Ming F., Ashing-Giwa, Kimlin T.

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A 3.3 V 6-Bit 100 kS/s Current-Steering Digital-to-Analog Converter Using Organic P-Type Thin-Film Transistors on Glass von Zaki, Tarek, Ante, F., Zschieschang, U., Butschke, J., Letzkus, F., Richter, H., Klauk, H., Burghartz, J. N.

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S-Parameter Characterization of Submicrometer Low-Voltage Organic Thin-Film Transistors von Zaki, T., Rodel, R., Letzkus, F., Richter, H., Zschieschang, U., Klauk, H., Burghartz, J. N.

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Contact properties of high-mobility, air-stable, low-voltage organic n-channel thin-film transistors based on a naphthalene tetracarboxylic diimide von Rödel, R., Letzkus, F., Zaki, T., Burghartz, J. N., Kraft, U., Zschieschang, U., Kern, K., Klauk, H.

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Nanopatterning of Magnetic Disks by Single-Step Ar+ Ion Projection von Dietzel, A., Berger, R., Loeschner, H., Platzgummer, E., Stengl, G., Bruenger, W.H., Letzkus, F.

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Top-contact organic transistors and complementary circuits fabricated using high-resolution silicon stencil masks von Ante, F, Letzkus, F, Butschke, J, Zschieschang, U, Burghartz, J N, Kern, K, Klauk, H

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Ion projection direct structuring for patterning of magnetic media von Dietzel, A., Berger, R., Grimm, H., Bruenger, W.H., Dzionk, C., Letzkus, F., Springer, R., Loeschner, H., Platzgummer, E., Stengl, G., Bandic, Z.Z., Terris, B.D.

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Dry etch processes for the fabrication of EUV masks von LETZKUS, F, BUTSCHKE, J, IRMSCHER, M, KAMM, F. M, KOEPERNIK, C, MATHUNI, J, RAU, J, RUHL, G

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Dry etch processes for the fabrication of EUV masks von Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Kamm, F.M., Koepernik, C., Mathuni, J., Rau, J., Ruhl, G.

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Application of ultra-high energy boron implantation for superjunction power (CoolMOS™) devices von Borany, J. von, Friedrich, M., Rüb, M., Deboy, G., Butschke, J., Letzkus, F.

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Dry etch improvements in the SOI wafer flow process for IPL stencil mask fabrication von Letzkus, F., Butschke, J., Höfflinger, B., Irmscher, M., Reuter, C., Springer, R., Ehrmann, A., Mathuni, J.

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Boron-content dependence of Fano resonances in p-type silicon von Gajić, R, Braun, D, Kuchar, F, Golubović, A, Korntner, R, Löschner, H, Butschke, J, Springer, R, Letzkus, F

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Evaluation of ion projection using heavy ions suitable for resistless patterning of thin magnetic films von Bruenger, W.H., Dzionk, C., Berger, R., Grimm, H., Dietzel, A., Letzkus, F., Springer, R.

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SOI wafer flow process for stencil mask fabrication von Butschke, J., Ehrmann, A., Höfflinger, B., Irmscher, M., Käsmaier, R., Letzkus, F., Löschner, H., Mathuni, J., Reuter, C., Schomburg, C., Springer, R.

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Reference plate manufacturing process for the ion projection lithography pattern lock system von Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Reuter, C., Springer, R., Eder, S., Löschner, H., Eberhardt, R., Mohaupt, M., Ehrmann, A., Mathuni, J., Panzer, B., Struck, T.

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A 3.3V 6b 100kS/s current-steering D/A converter using organic thin-film transistors on glass von Zaki, T, Ante, F, Zschieschang, U, Butschke, J, Letzkus, F, Richter, H, Klauk, H, Burghartz, J N

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Submicron low-voltage organic transistors and circuits enabled by high-resolution silicon stencil masks von Ante, F, Letzkus, F, Butschke, J, Zschieschang, U, Kern, K, Burghartz, J N, Klauk, H

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Lithography for the 32-nm Node and Beyond von Burghartz, J.N., Irmscher, M., Letzkus, F., Kretz, J., Resnick, D.

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