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Competing relaxation mechanisms in strained layers
Veröffentlicht in Physical review letters
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Anomalous strain relaxation in SiGe thin films and superlattices
Veröffentlicht in Physical review letters
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Defect self-annihilation in surfactant-mediated epitaxial growth
Veröffentlicht in Physical review letters
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New approach to the growth of low dislocation relaxed SiGe material
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Growth and strain compensation effects in the ternary Si1-x-yGexCy alloy system
Veröffentlicht in Applied physics letters
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A liquid solution synthesis of single crystal germanium quantum wires
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Nucleation of dislocations in SiGe layers grown on (001)Si
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Kinetics and mechanism of oxidation of SiGe: dry versus wet oxidation
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Relaxed Si0.7Ge0.3 buffer layers for high-mobility devices
Veröffentlicht in Applied physics letters
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High-temperature SiO2 decomposition at the SiO2/Si interface
Veröffentlicht in Physical review letters
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Surfactant coverage and epitaxy of Ge on Ga-terminated Si(111)
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Surface-stress-induced order in SiGe alloy films
Veröffentlicht in Physical review letters
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Cooperative growth phenomena in silicon/germanium low-temperature epitaxy
Veröffentlicht in Applied physics letters
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