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Study of machine to machine overlay error for sub- 60 - nm memory devices von Shin, Jangho, Lee, Sihyeung, Yeo, Jeongho, Kim, Hochul, Lee, Junghyeon, Han, Woosung

Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena

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Methods of fabricating microelectronic features by forming intermixed layers of water-soluble resins and resist materials von SIHYEUNG-LEE, KIM HYOUNGDO, WOOSUNG-HAN, SANGJUNOI

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Methods of fabricating microelectronic features by forming intermixed layers of water-soluble resins and resist materials von CHOI SANGJUN, KIM HYOUNGDO, HAN WOOSUNG, LEE SIHYEUNG

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Methods of fabricating microelectronic features by forming intermixed layers of water-soluble resins and resist materials von Choi, Sangjun, Lee, Sihyeung, Kim, Hyoungdo, Han, Woosung

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Methods of fabricating microelectronic features by forming intermixed layers of water-soluble resins and resist materials von Sihyeung-Lee, Sangjun-Choi, Kim, Hyoungdo, Woosung-Han

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METHOD OF FORMING MICROELECTRONIC PATTERN BY FORMING MIXED LAYER OF WATER-SOLUBLE RESIN AND RESIST MATERIAL von SIHYEUNG-LEE, CHOI SANG-JUN, KIM HYOUNGDO, WOOSUNG-HAN

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