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Temperature effect on deposition rate of silicon nitride films
Veröffentlicht in Applied surface science
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Wavelet characterization of plasma etch nonuniformity
Veröffentlicht in Thin solid films
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Modelling of plasma etching process using radial basis function network and genetic algorithm
Veröffentlicht in Vacuum
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Modeling of Sidewall Bottom Etching Using a Neural Network
Veröffentlicht in Journal of the Korean Physical Society
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