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Ion implantation :A new method of doping semiconductors-I
Veröffentlicht in Contemporary physics
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Comparison of the neutron yield from deuterided erbium and titanium targets
Veröffentlicht in Nuclear instruments & methods
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Ion implantation: A new method of doping semiconductors-II
Veröffentlicht in Contemporary physics
VolltextArtikel -
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Ion-implantation doping of semiconductors
Veröffentlicht in Journal of materials science
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The application of ion implantation to specific device structures
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Hypertriton Production in p -Pb Collisions at s N N = 5.02 TeV
Veröffentlicht in Physical review letters
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