-
1
-
2
-
3
-
4
Device Delay in GaN Transistors Under High Drain Bias Conditions
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
5
Impact of \hbox\hbox Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
6
210-GHz InAlN/GaN HEMTs With Dielectric-Free Passivation
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
7
Nanowire Channel InAlN/GaN HEMTs With High Linearity of gm and fT
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
8
220-GHz Quaternary Barrier InAlGaN/AlN/GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
9
Quaternary Barrier InAlGaN HEMTs With f/f of 230/300 GHz
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
10
-
11
Impact of Al2O3 Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
12
-
13
-
14
-
15
-
16
-
17
-
18
-
19
-
20
317 GHz InAlGaN/GaN HEMTs with extremely low on-resistance
Veröffentlicht in Physica status solidi. C
VolltextArtikel