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Solution precursor chemical vapor deposition of titanium oxide thin films
Veröffentlicht in Thin solid films
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Integrated barrier/plug fill schemes for high aspect ratio Gb DRAM contact metallization
Veröffentlicht in Thin solid films
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Surface reactions of dimethylaminoarsine during MOMBE of GaAs
Veröffentlicht in Journal of crystal growth
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Relaxation-Induced Excess Leakage Current in Recessed Si 1-x Ge x Source/Drain Junctions
Veröffentlicht in ECS transactions
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