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Enhancing metal/low-K interconnect reliability using a protection layer
von
TEE TONG YAN
,
LOO ZHI YUAN SHANE
,
WANG SHANZHONG
,
ZHANG XUEREN
,
NOSIK VALERIY
,
IDAPALAPATI SRIDHAR
,
MHAISALKAR SUBODH
,
ZHOU JIJIE
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ENHANCING METAL/LOW-K INTERCONNECT RELIABILITY USING A PROTECTION LAYER
von
TEE TONG YAN
,
LOO ZHI YUAN SHANE
,
WANG SHANZHONG
,
ZHANG XUEREN
,
NOSIK VALERIY
,
IDAPALAPATI SRIDHAR
,
MHAISALKAR SUBODH
,
ZHOU JIJIE
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Enhancing metal/low-K interconnect reliability using a protection layer
von
Tee, Tong Yan
,
Zhang, Xueren
,
Wang, Shanzhong
,
Nosik, Valeriy
,
Zhou, Jijie
,
Idapalapati, Sridhar
,
Mhaisalkar, Subodh
,
Loo, Zhi Yuan Shane
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4
Enhancing metal/low-K interconnect reliability using a protection layer
von
TEE TONG YAN
,
LOO ZHI YUAN SHANE
,
WANG SHANZHONG
,
ZHANG XUEREN
,
NOSIK VALERIY
,
IDAPALAPATI SRIDHAR
,
MHAISALKAR SUBODH
,
ZHOU JIJIE
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Esp@Cenet
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