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An Embedded All-Digital Circuit to Measure PLL Response
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
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Microstructure and reliability of copper interconnects
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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Kinetics of copper drift in PECVD dielectrics
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Electrical leakage at low-K polyimide/TEOS interface
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Barriers for copper interconnections
Veröffentlicht in Solid state technology
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