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    Imprint lithography utilizing silated acidic polymers

    Imprint lithography utilizing silated acidic polymers von HSU LIENUNG, HONG CHAU-NAN, HON MIN-HSIUNG, LIAO WENGUNG

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    Nanoimprint lithography having solvent-free liquid polymer resist

    Nanoimprint lithography having solvent-free liquid polymer resist von HSU STEVE L, HONG CHAU-NAN, HON MIN-HSIUNG, LIAO WENGUNG

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    Method for high aspect ratio pattern transfer

    Method for high aspect ratio pattern transfer von LEE PO-I, HSU LIENUNG, HONG CHAU-NAN, HON MIN-HSIUNG, LIAO WENGUNG

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    Method for high aspect ratio pattern transfer

    Method for high aspect ratio pattern transfer von LEE PO-I, HSU LIENUNG, HONG CHAU-NAN, HON MIN-HSIUNG, LIAO WENGUNG

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