Loci associated with ischaemic stroke and its subtypes (SiGN): a genome-wide association study von McArdle, Patrick F, Malik, Rainer, Algra, Ale, Amouyel, Philippe, Anderson, Christopher D, Arsava, Ethem Murat, Ay, Hakan, Blanton, Susan H, Brown, Robert D, Burgess, Annette I, Chasman, Daniel I, Chen, Wei-Min, Cheng, Yu-Ching, Cotlarciuc, Ioana, Cruchaga, Carlos, Dave, Tushar, Dawson, Jesse, Delavaran, Hossein, Dell, Cameron A, Dichgans, Martin, Doheny, Kimberly F, Dong, Chuanhui, Duggan, David J, Fornage, Myriam, Frossard, Philippe M, Gamble, Dale M, Giralt-Steinhauer, Eva, Grewal, Raji P, Han, Buhm, Hankey, Graeme J, Heitsch, Laura, Higgins, Peter, Hopewell, Jemma C, Horenstein, Richard B, Howard, George, Ingelsson, Erik, Jackson, Rebecca D, Jern, Christina, Jood, Katarina, Kahn, Muhammad S, Kappelle, L Jaap, Kardia, Sharon L R, Keene, Keith L, Kissela, Brett M, Labovitz, Daniel, Lee, Cue Hyunkyu, Lee, Jin-Moo, Lehm, Manuel, Levi, Christopher, Leys, Didier, Maguire, Jane, Manichaikul, Ani, McClure, Leslie A, Mola-Caminal, Marina, Montaner, Joan, Müller-Nurasyid, Martina, Nalls, Mike A, O'Connell, Jeffrey R, O'Donnell, Martin, Papanicolaou, George J, Paré, Guillaume, Pera, Joanna, Peters, Annette, Rabionet, Raquel, Raffeld, Miriam R, Rannikmäe, Kristiina, Rasheed, Asif, Rexrode, Kathryn, Rolfs, Arndt, Rose, Lynda M, Sacco, Ralph L, Schmidt, Reinhold, Schürks, Markus, Segal, Helen C, Seiler, Stephan, Shuldiner, Alan R, Silver, Brian, Slowik, Agnieszka, Smith, Jennifer A, Söderholm, Martin, Sparks, Mary J, Sudlow, Cathie LM, Tajuddin, Salman M, Talbert, Robert L, Tatlisumak, Turgut, Thorsteindottir, Unnur, Tiedt, Steffen, Trompet, Stella, Waldenberger, Melanie, Wang, Liyong, Wassertheil-Smoller, Sylvia, Weir, David R, Wiggins, Kerri L, Wloch-Kopec, Dorota, Woodfield, Rebecca, Xu, Huichun, Zonderman, Alan B, Worrall, Bradford B, Kittner, Steven J, Arnett, Donna K Arnett

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Stroke Etiology Modifies the Effect of Endovascular Treatment in Acute Stroke von Tiedt, Steffen, Herzberg, Moriz, Küpper, Clemens, Feil, Katharina, Kellert, Lars, Dorn, Franziska, Liebig, Thomas, Alegiani, Anna, Dichgans, Martin, Wollenweber, Frank A., Alber, B., Bangard, C., Berrouschot, J., Bode, F.J., Boeckh-Behrens, T., Bohner, G., Bormann, A., Braun, M., Eckert, B., Fiehler, J., Flottmann, F., Gerloff, C., Hamann, G.F., Henn, K.H., Kastrup, A., Kraemer, C., Krause, L., Lehm, M., Liman, J., Lowens, S., Mpotsaris, A., Nolte, C.H., Papanagiotou, P., Petersen, M., Petzold, G.C., Pfeilschifter, W., Psychogios, M.N., Reich, A., von Rennenberg, R., Röther, J., Schäfer, J.H., Siebert, E., Siedow, A., Solymosi, L., Thomalla, G., Thonke, S., Wagner, M., Wunderlich, S., Zweynert, S.

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Police auxiliaries parading, around 1942

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Amazonian ecosystems and their ecological functions von Moraes, RM, Correa, SB, Doria, CRC, Duponchelle, F, Miranda, G, Montoya, M, Phillips, O, Salinas, N, Silman, M, Ulloa Ulloa, C, Zapata-Ríos, G, Arieira, J, ter Steege, H

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Oligosiloxane mit funktionellen Gruppen. XI, Zur Synthese von Siloxanyl- und Na-Sulfo-Propoxy-α,α,ω-trihydroperfluoralkanen von SONNEK, G, RABE, C, SCHMAUCKS, G, KADEN, R, LEHMS, I

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Oligosiloxane mit funktionellen gruppen: XI. Zur Synthese von Siloxanyl- und Na-Sulfo-Propoxy α,α,ω-trihydroperfluoralkanen von Sonnek, Georg, Rabe, Christiane, Schmaucks, Gerd, Kaden, Reinfried, Lehms, Ingeburg

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Historische Beschreibung der ... Universitat Leipzig von Georg Christian. Lehms

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Die unglückselige Princeßin Michal und der verfolgte David von Georg Christian Lehms

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Photoresist soln. contg. acyclic or cyclic siloxane] cpd. - to reduce surface roughness of coating, useful for structurising microelectronic device von BAUMBACH, WOLFGANG, O-1058 BERLIN, DE, HAEHNEL, ELFRIEDE, O-1197 BERLIN, DE, SEIBT, HORST., O-1055 BERLIN, DE, PRESCHER, DIETRICH., O-1193 BERLIN, DE, ENGELBRECHT, LOTHAR., O-1130 BERLIN, DE, LEHMANN, LUKAS, O-1055 BERLIN, DE, BARNIKOW, JOACHIM, O-1170 BERLIN, DE, LEHMS, INGEBURG, O-8010 DRESDEN, DE

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Positive photoresist soln. contg. siloxane with fluoroalkyl gps. - use to reduce surface roughness of coating, useful for structurising microelectronic device von BAUMBACH, WOLFGANG, O-1058 BERLIN, DE, HAEHNEL, ELFRIEDE, O-1197 BERLIN, DE, PRESCHER, DIETRICH., O-1193 BERLIN, DE, LEHMANN, LUKAS, O-1055 BERLIN, DE, ENGELBRECHT, LOTHAR., O-1130 BERLIN, DE, BARNIKOW, JOACHIM, O-1170 BERLIN, DE, SEIBT, HORST, LEHMS, INGEBURG, O-8010 DRESDEN, DE, PLATANOW, V. E., NOVOSIBIRSK, SU

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Photostatic lacquer soln. - contains ether cpd. contg. fluorinated alkyl gp. and siloxanyl gp., useful for microelectronic components von BAUMBACH, WOLFGANG, O-1058 BERLIN, DE, HAEHNEL, ELFRIEDE, O-1197 BERLIN, DE, SEIBT, HORST., O-1055 BERLIN, DE, PRESCHER, DIETRICH., O-1193 BERLIN, DE, ENGELBRECHT, LOTHAR., O-1130 BERLIN, DE, LEHMANN, LUKAS, O-1055 BERLIN, DE, BARNIKOW, JOACHIM, O-1170 BERLIN, DE, LEHMS, INGEBURG, O-8010 DRESDEN, DE

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