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Directed Self-Assembly and Pattern Transfer of Five Nanometer Block Copolymer Lamellae
Veröffentlicht in ACS nano
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Pattern Transfer of Sub-10 nm Features via Tin-Containing Block Copolymers
Veröffentlicht in ACS macro letters
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Design of high‐χ block copolymers for lithography
Veröffentlicht in Journal of polymer science. Part A, Polymer chemistry
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Photopatternable Interfaces for Block Copolymer Lithography
Veröffentlicht in ACS macro letters
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Block Copolymers for DSA in the 100 Å Regime
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Block Copolymers for DSA in the 100 ^|^Aring; Regime
Veröffentlicht in Journal of photopolymer science and technology
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Multidimensional Scaling Analyses of the Perceived Social Structure of Informal Groups
Veröffentlicht in Group dynamics
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