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Device Delay in GaN Transistors Under High Drain Bias Conditions
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Impact of \hbox\hbox Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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6
Nanowire Channel InAlN/GaN HEMTs With High Linearity of g and f
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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7
210-GHz InAlN/GaN HEMTs With Dielectric-Free Passivation
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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8
Nanowire Channel InAlN/GaN HEMTs With High Linearity of gm and fT
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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9
220-GHz Quaternary Barrier InAlGaN/AlN/GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Quaternary Barrier InAlGaN HEMTs With f/f of 230/300 GHz
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Impact of Al2O3 Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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