Mechanical characterization of membrane like microelectronic components von Držı́k, M., Löschner, H., Haugeneder, E., Fallman, W., Hudek, P., Rangelow, I.W., Sarov, Y., Lalinský, T., Chlpı́k, J.

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Boron-content dependence of Fano resonances in p-type silicon von Gajić, R, Braun, D, Kuchar, F, Golubović, A, Korntner, R, Löschner, H, Butschke, J, Springer, R, Letzkus, F

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Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process von Hirscher, S., Kümmel, M., Kirch, O., Domke, W.-D., Wolter, A., Käsmaier, R., Buschbeck, H., Cekan, E., Chalupka, A., Chylik, A., Eder, S., Horner, C., Löschner, H., Nowak, R., Stengl, G., Windischbauer, T., Zeininger, M.

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SOI wafer flow process for stencil mask fabrication von Butschke, J., Ehrmann, A., Höfflinger, B., Irmscher, M., Käsmaier, R., Letzkus, F., Löschner, H., Mathuni, J., Reuter, C., Schomburg, C., Springer, R.

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Resist process development for sub-100-nm ion projection lithography von Hirscher, S, Kaesmaier, R, Domke, W.-D, Wolter, A, Löschner, H, Cekan, E, Horner, C, Zeininger, M, Ochsenhirt, J

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Taschenbuch für praktische Geometrie von Löschner, H

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Finite element simulation of ion-beam lithography mask fabrication von Tejeda, R., Frisque, G., Engelstad, R., Lovell, E., Haugeneder, E., Löschner, H.

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Stress relief structures for ion-beam projection lithography masks von Tejeda, R., Engelstad, R., Lovell, E., Haugeneder, E., Löschner, H.

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Reference plate manufacturing process for the ion projection lithography pattern lock system von Letzkus, F., Butschke, J., Irmscher, M., Reuter, C., Springer, R., Eder, S., Löschner, H., Eberhardt, R., Mohaupt, M., Ehrmann, A., Mathuni, J., Panzer, B., Struck, T.

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Comparison of experimental and Monte Carlo results of stochastic Coulomb interaction in projection beam lithography von de Jager, P.W.H., Mertens, B., Munro, E., Cekan, E., Lammer, G., Vonach, H., Buschbeck, H., Zeininger, M., Horner, C., Löschner, H., Stengl, G., Bleeker, A.J.

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Stencil mask distortion control using nonsymmetric perforation rings von Sprague, M., Semke, W., Engelstad, R., Lovell, E., Chalupka, A., Löschner, H., Stengl, G.

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Evaluation of critical design parameters of an ion projector for 1 Gbit DRAM production von Bru¨nger, W.H., Lo¨schner, H., Stengl, G., Fallmann, W., Finkelstein, W., Melngailis, J.

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Silicon stencil masks for masked ion beam lithography proximity printing von Rangelow, I.W., Shi, F., Hudek, P., Kostic, I., Hammel, E., Löschner, H., Stengl, G., Cekan, E.

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Masked ion beam lithography for proximity printing von Hammel, E., Löschner, H., Stengl, G., Buschbeck, H., Chalupka, A., Vonach, H., Cekan, E., Fallmann, W., Paschke, F., Stangl, G.

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Analysis of stencil mask distortion in ion projection lithography von Didenko, L., Melngailis, J., Löschner, H., Stengl, G., Chalupka, A., Shimkunas, A.

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Lithography with high depth of focus by an ion projection system von Buchmann, L.-M., Schnakenberg, U., Torkler, M., Loschner, H., Stengl, G., traher, C., Fallmann, W., Stangl, G., Cekan, E.

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Distortion evaluation of nickel stencil masks with the help of ion proximity exposures and registration measurements on the Leitz LMS- 2000 von Rangelow, I.W., Lahr, V., Kassing, R., Bläsing-Bangert, C., Röth, K.-D., Bösch, G., Chalupka, A., Fischer, R., Löschner, H., Nowak, R., Traher, C., Stengl, G., Kraus, H., Bayer, E.

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NANOJET: Nanostructuring via a downstream plasmajet von Voigt, J., Reinker, B., Rangelow, I. W., Mariotto, G., Shvets, I., Guethner, P., Löschner, H.

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Temperature dependence of the microwave behavior of polar semiconductors: n -InSb at 134 GHz von Löschner, H., Kranzer, D.

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High precision stress measurement of ion projection lithography mask membranes von Torres, José L., Wolfe, J. C., Ruchhoeft, Paul, Kennedy, Timothy F., Podolski, Joseph, Kragler, Karl, Ehrmann, Albrecht, Kaesmaier, R., Löschner, H.

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