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Atomic force microscope anodization lithography using a triarylsulfonium salt photoinitiator
von
Jang, Eujean
,
Kwun, Gijin
,
Choi, Wansik
,
Lee, Haiwon
Veröffentlicht in
Colloids and surfaces. A, Physicochemical and engineering aspects
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Synthesis of novel polymers containing photoacid generator and its application in atomic force microscope lithography
von
Kwun, Gijin
,
Jang, Eujean
,
Kwon, Gwangmin
,
Lee, Haiwon
Veröffentlicht in
Current applied physics
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Synthesis of Resists Containing a Photoacid Generator Group for Atomic Force Microscope Lithography
von
Park, Sang Wook
,
Kim, Yong Il
,
Yoon, Hyun Jin
,
Oh, Hee Young
,
Lee, Hai Won
,
Kwun, Gi Jin
Veröffentlicht in
Solid state phenomena
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Composition for Plating Copper
von
KWUN GIJIN
,
CHO BAEKHYUN
,
CHOI HYUNG SUB
,
KWON O BYOUNG
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Patent
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5
Composition for Cleaning of Semiconductor Substrate
von
KWUN GIJIN
,
CHO YONGHWAN
,
AHN KYUSANG
,
CHUN JI MIN
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Composition for Cleaning of Semiconductor Substrate
von
KWUN GIJIN
,
CHO YONGHWAN
,
CHUN JI MIN
,
AHN KYUSANG
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Colloids And Surfaces. A, Physicochemical And Engineering Aspects
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Esp@Cenet
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Elsevier Sciencedirect Journals Complete
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Sd College Edition Journals Collection - Physical Sciences [Scps]
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