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    Controlled deposition of plasma‐polyaniline thin film by PECVD: Understanding the influence of aniline to argon ratio

    Controlled deposition of plasma‐polyaniline thin film by PECVD: Understanding the influence of aniline to argon ratio von Pattyn, Cedric, Sciacqua, Dario, Kwiedor, Lukas, Jagodar, Andrea, Strunskus, Thomas, Traeger, Franziska, Lecas, Thomas, Kovacevic, Eva, Berndt, Johannes

    Veröffentlicht in Plasma processes and polymers

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