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Evaluation of New Molecular Resist for EUV Lithography
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Patterning capability of new molecular resist in EUV lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Ultrahigh-Density HfO 2 Nanodots for Flash Memory Scaling
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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