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In-situ X-ray Diffraction study of Metal Induced Crystallization of amorphous silicon
Veröffentlicht in Thin solid films
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High- k dielectrics for future generation memory devices (Invited Paper)
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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The influence of Pt redistribution on Ni1−xPtxSi growth properties
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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In situ X-ray diffraction study of thin film Ir/Si solid state reactions
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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The influence of Pt redistribution on Ni 1 − x Pt x Si growth properties
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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The influence of Pt redistribution on Ni{sub 1-x}Pt{sub x}Si growth properties
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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