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Solid-state reactions between Cu(Ni) alloys and Sn
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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A novel impact test system for more efficient reliability testing
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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Failure mechanism of Ta diffusion barrier between Cu and Si
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Effect of oxygen on the reactions in the Si/Ta/Cu metallization system
Veröffentlicht in Journal of materials research
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TaC as a diffusion barrier between Si and Cu
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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